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化才能实现理想的光刻分辨率。
套刻精度与光刻分辨率相?关，直接受其影响。
至于产能，则与光源系统的稳定相?关。
以上是?对激光器的要求，相?对整个?光源系统的技术要求不?算高，系统工程程序中最难的步骤是?光的收集。
收集难度大，转化效率也低。
雷客坐在电脑前，操纵鼠标在软件里做精密的计算：“所需的极紫外光必须在真空下进?行?反射，不?能被折射，因?为它非常容易被吸收。真空腔内的反射镜需要特殊镀膜，把这束光，从光源一路引导到晶圆……经过十几?次反射，最终剩下的光线不?到2！”
围观过来的研发部成员倒吸一口凉气，虽早知光源转化率低，但听?到这数字还是?低得让他们心疼。
光源转化率低就意味着能量的巨大消耗，最直观的例子，一台euv机器输出功率两百瓦左右，工作一天，耗电三?万度。
光线利用率不?到2已经是?优化其他性能所能够得到的最佳数据，决定该性能优化的决定性关键就是?反射镜的精度。
“精度必须以皮秒来计算。”
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